首 页
关于我们
产品中心
资质荣誉
应用领域
招聘英才
联系我们
资质荣誉
科技创新
资质&荣誉
荣誉资质
您的位置：
首 页
>>
资质荣誉
>> 荣誉资质
发明-LPCVD排风结构
带氯化氢清洗功能的低压气相沉积设备
用于半导体材料的激光打孔切割系统
LPCVD初始沉积炉温的精确控制方法
玻璃钝化硅晶圆的背面切割对位线的制作方法及设备
成果转化
高新技术企业证书
ISO认证
ISO认证2
一种炉门法兰
一种燃烧室结构
激光晶圆切割机
一种LPCVD沉积炉管
一种LPCVD沉积装置
带氯化氢清洗功能的低压化学气相沉积设备
一种提高LPCVD沉积膜载片舟
多探针时序测试系统
多探针时序点测机
激光打孔一体机
激光打孔切割系统
玻璃制作设备
LPCVD低压化学气相控制软件
精密切割机
一体机外观
COPYRIGHT 2016-2018上海微世半导体有限公司ALL RIGHTS RESERVED 备案许可证号:沪ICP备09052610号
技术支持：
培文信息
友情链接：
上海旅思真空设备有限公司
上海飒科国际贸易有限公司
百度
